DMD无掩膜光学邻近修正原理

[视频作者] 托托科技

[视频时长] 0:53

[视频类型] 科学科普

在DMD无掩膜光刻机中，处于“ON”状态的微镜可以看作是独立的衍射元件，其衍射光叠加在周围微镜的光场上，使中心微镜的UV光强度比边缘微镜的UV光强度强得多。此外，在穿过投影透镜时，一部分高频信息（如正交角）丢失，这些因素会导致最终曝光图案变形，例如线宽变化、线长收缩、转角变圆。通过改变光。刻图形不同位置曝光量，使其最终完成的光刻图形与所设计的图形得到较为一致的匹配结果，即光学邻近修正。